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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
1、引言
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是新研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。
配置兩個靶槍,一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個為配套直流電源用于導電類材料的濺射鍍膜;可制備多種薄膜,應用廣泛;體積小,操作簡便。
2、主要技術指標
電源:220V 50Hz
大功率:<560W(不含真空泵)
極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設備使用可達到E-5mbar)
工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)
靶槍數量:2個(可選配其他數量)
靶槍冷卻方式:水冷
靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
直流濺射功率:500W(可選)
射頻濺射功率:300W/500W(可選)
載樣臺:Ø140mm
載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調
保護氣體:Ar、N2等惰性氣體
進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,每個流量為100SCCM
尺寸:500mm×560mm×660mm
整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm
重量:160kg
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
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